DDWI高純水用EDI膜塊和設(shè)備
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人氣：7814 發(fā)布時(shí)間：2012-09-19 09:24 關(guān)鍵詞：EDI膜塊和設(shè)備 產(chǎn)品型號(hào)：EDI-P&F-0.5-HP 應(yīng)用領(lǐng)域：水處理 產(chǎn)品價(jià)格：6000 想了解更多產(chǎn)品詳情，請(qǐng) |
連續(xù)電除鹽（EDI）膜塊
一、前言：
EDI（Electrodeionization）是一種具有革命性意義的水處理技術(shù)，它巧妙地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)相融合，無需酸堿，而能連續(xù)制取高品質(zhì)的純水。它具有技術(shù)先進(jìn)、操作簡便、良好的環(huán)保特性，代表著一種行業(yè)方向。它的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進(jìn)步，標(biāo)志著水處理工業(yè)最終全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。EDI裝置由增壓泵、電去離子（EDI）膜塊、直流穩(wěn)壓電源、流量計(jì)、儀表等組成。合格的RO產(chǎn)水經(jīng)增壓泵增壓進(jìn)入EDI系統(tǒng)，EDI膜堆中混合離子交換樹脂將不斷的去除原水中的陰、陽離子，而通過膜堆電流將在陰膜和陽膜附近的水分子使之產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子，電離的氫離子和氫氧根離子將再生混合離子交換樹脂，同時(shí)交換下來的陰、陽離子經(jīng)過反擴(kuò)散分別由陰膜和陽膜進(jìn)入濃水室排出。電再生過程使EDI系統(tǒng)既不需要停機(jī)也不需要傳統(tǒng)的再生設(shè)備就能實(shí)現(xiàn)持續(xù)生產(chǎn)高質(zhì)量的去離子水。東大水業(yè)擁有多年研發(fā)生產(chǎn)EDI的技術(shù)，按行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)HY/120-2008、HG/H3982-2007，新推出無需濃水循環(huán)、無需加鹽的全填充式EDI膜塊新產(chǎn)品,其技術(shù)性能達(dá)到國外同類產(chǎn)品，真正做到物美價(jià)廉。
二.EDI的工作結(jié)構(gòu)原理圖：
三.EDI進(jìn)水要求：
1. 給水：RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率≤20μs·cm（建議＜10μs·cm）；
2. PH值：6.0-9.0（建議7.0-9.0，但硬度不可過高）；
3. 水溫度：5-35°C；
4. 硬度（以CaCO3計(jì)）：＜0.5ppm；
5. 有機(jī)物：最大為0.5ppm，TOC建議值為零；
6. 氧化劑：最大為0.05ppm（Cl2），0.02ppm（O3），兩者為零最優(yōu)；
7. Fe，Mn：＜0.01ppm；
8. 二氧化硅：＜0.5ppm；
9．二氧化碳：＜5ppm；
10.油和油脂：檢不出。
四.EDI膜塊運(yùn)行參數(shù)
EDI膜塊運(yùn)行遵循淡水進(jìn)水壓力高于濃水進(jìn)水壓力0.05-0.15MPA，產(chǎn)水出水壓力高于濃水出水壓力0.03-0.07MPA。濃水的排放流量是產(chǎn)水流量的8-15%。
建議在直流電源在穩(wěn)流狀態(tài)下運(yùn)行，電流大小根據(jù)進(jìn)水電導(dǎo)率來選擇： 1-5μs/cm電流1.5-2.0A;
5-10μs/cm電流2.0
10-15μs/cm電流2.5
15-20μs/cm電流3.0
電壓會(huì)隨著膜塊運(yùn)行濃水室的離子增多而自動(dòng)調(diào)整。
膜塊上紅色電線為“正”極。
五.造成膜塊需要清洗及維護(hù)的原因：
1、在運(yùn)行中，將較差的給水引進(jìn)膜塊(進(jìn)水電導(dǎo)率超標(biāo))。
2、給水中主要引起結(jié)垢的是TOC、硬度和鐵,給水硬度較高將引起離子交換膜濃水側(cè)結(jié)垢，而使產(chǎn)品水水質(zhì)降低。水硬度、溶解的CO2和高的PH值會(huì)加速結(jié)垢。
3、給水中的有機(jī)物污染，會(huì)在離子交換樹脂和離子交換膜表面形成薄膜，將嚴(yán)重影響離子遷移速率，從而影響產(chǎn)品水水質(zhì)。
4、如果EDI組件在無直流電或給電不足的情況下運(yùn)行，交換床內(nèi)離子處于離子飽和狀態(tài)，產(chǎn)品水的水質(zhì)會(huì)降低。
5、電極連接器應(yīng)該定期檢查，以防由周圍條件引起的腐蝕或松弛，以免增加電阻，阻礙電流渡過，導(dǎo)致產(chǎn)品水水質(zhì)下降。
六、濃水室結(jié)垢酸清洗方法：
當(dāng)設(shè)備運(yùn)行一段時(shí)間后，出現(xiàn)濃水流量與初始濃水流量相比下降10%-20%，或者運(yùn)行電壓上升、電流下降時(shí)需要及時(shí)對(duì)濃水側(cè)進(jìn)行清洗。方法如下：在濃水清洗箱內(nèi)（另配）配制3-5%濃度的鹽酸溶液(注意先加水后加酸)。將濃水清洗箱與濃淡水增壓泵相連接，關(guān)閉直流電源、淡水進(jìn)水調(diào)節(jié)閥、產(chǎn)水出水調(diào)節(jié)閥。開啟增壓泵，濃水進(jìn)出水循環(huán)3分鐘（濃水壓力控制在0.1Mpa以下），然后停泵用清洗液浸泡30分鐘，再開啟增壓泵循環(huán)5分鐘。最后排放清洗液，用去離子水沖洗殘留的清洗液。
注意:清洗濃水室時(shí),要關(guān)閉直流電源、進(jìn)水調(diào)節(jié)閥、產(chǎn)水調(diào)節(jié)閥。
七、膜塊的再生過程：
當(dāng)一個(gè)膜塊內(nèi)部的樹脂被離子消耗盡的時(shí)候，需要再生。這種情況可能在清洗、停機(jī)或膜塊電流過低或被關(guān)閉時(shí)發(fā)生。
再生過程是將樹脂中多余的離子置換出膜塊，使膜塊在穩(wěn)定狀態(tài)下運(yùn)行。再生過程中，短時(shí)間內(nèi)大幅度地改變系統(tǒng)參數(shù)將樹脂中多余的離子帶出膜塊。
啟動(dòng)EDI系統(tǒng)，使淡水流量、濃水流量控制在日常流量不變，將電流設(shè)置為通常的150%-200%。在運(yùn)行1個(gè)小時(shí)后，將流量和電流恢復(fù)到日常值上（這一點(diǎn)非常重要）。為了提高再生速度,可將EDI產(chǎn)水循環(huán)。
注意:無論何時(shí)電流務(wù)必不大于6A。
八、注意事項(xiàng):
1、膜堆上的緊固螺栓切勿擰松。如果螺栓被擰松將造成膜堆不可恢復(fù)的損壞！
2、膜堆開機(jī)時(shí)必須先通水后通電，關(guān)機(jī)時(shí)必須先斷電后斷水。膜堆在斷水的情況下通電將造成膜堆不可恢復(fù)的損壞！
3、由于EDI系統(tǒng)具有高電壓，因此在進(jìn)行維修和維護(hù)之前應(yīng)確保EDI系統(tǒng)停止供電！
4、定期對(duì)進(jìn)水水質(zhì)進(jìn)行分析，確保進(jìn)水水質(zhì)達(dá)到EDI進(jìn)水指標(biāo)的要求！
5、在停機(jī)期間EDI膜堆必需保持濕態(tài)！
6、停機(jī)后關(guān)閉所有閥門！
