高溫抽取式氨逃逸在線分析儀
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人氣：4034 發(fā)布時(shí)間：2017-02-17 11:41 產(chǎn)品型號： 應(yīng)用領(lǐng)域：大氣控制 產(chǎn)品價(jià)格： 想了解更多產(chǎn)品詳情，請 |
系統(tǒng)介紹
在脫銷工藝氣體監(jiān)測中，出口的氨逃逸（殘余氨）濃度檢測非常重要，這是因?yàn)榘碧右菔欠从澈涂荚u脫銷效率的指標(biāo)之一，同時(shí)過量的氨逃逸會生成銨鹽嚴(yán)重影響后續(xù)空預(yù)器等設(shè)備正常運(yùn)行，因此NH3逃逸監(jiān)測也是目前國內(nèi)脫銷工藝中煙氣監(jiān)測的重點(diǎn)和難點(diǎn)。HM-NH1000脫硝氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)是武漢華敏引進(jìn)國外多次反射池專利技術(shù)針對脫硝的工藝特點(diǎn)和監(jiān)測難點(diǎn)而開發(fā)設(shè)計(jì)的一款全程超高溫原位抽取式激光監(jiān)測分析系統(tǒng)。適用于眾多工業(yè)領(lǐng)域的氣體排放監(jiān)測和過程控制，例如：燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、核電站、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等領(lǐng)域。
系統(tǒng)特點(diǎn)
光纖分布技術(shù)-實(shí)現(xiàn)主機(jī)與現(xiàn)場光學(xué)發(fā)射接收單元分離，可使一臺主機(jī)同時(shí)監(jiān)測4個(gè)測點(diǎn)。無需校正技術(shù)-分析儀采用內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)氣體參比模塊，實(shí)時(shí)鎖住氨氣吸收譜線，不受溫度、電源以及系統(tǒng)部件老化影響，系統(tǒng)無漂移，避免了系統(tǒng)定期校正煩惱。
氣、鏡分離的多次反射池技術(shù)，多次反射池有效光程達(dá)到30米，靈敏度可達(dá)0.1ppm，被測氣體與反射鏡分離不接觸，氣體干擾不會影響儀表測量精度和反射鏡腐蝕。所有樣品接觸部分均溫控到250℃，避免NH3與SO3產(chǎn)生NH4(HSO4)，造成采樣損失。
原位抽取采用方式?jīng)]有采樣管線，樣品氣體直接進(jìn)入多次反射池，避免采樣損失。
系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)列表
1. 系統(tǒng)配置
單通道HM10-NH3 適用于所有SCR/SNCR脫硝煙道單點(diǎn)監(jiān)測
雙通道HM20-NH3 適用于一個(gè)機(jī)組的A、B煙道或自備電廠兩個(gè)小機(jī)組單獨(dú)煙道監(jiān)測
2. 技術(shù)參數(shù)
測量原理 TDLAS
測量組分 NH3 (可增加NOx 和O2)
NH3：0-10ppm
量程范圍 NOx：0-1000ppm
O2： 0-21%
NH3：0.1ppm
分辨率 NOx：1ppm
O2： 0.01%
NH3：±0.1ppm
測量精度 NOx：±3%F S
O2：±1% F S
響應(yīng)時(shí)間 ≤1S
儀表光程 30米
伴熱溫度 全程250℃
預(yù)熱時(shí)間 ≤30min
探頭工作溫度 0-500℃
探頭長度 1200、1500
