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SQSX系列一體化廢水處理設(shè)備

人氣:1732 發(fā)布時(shí)間:2011-08-10 14:13

關(guān)鍵詞:污水處理設(shè)備

產(chǎn)品型號(hào):

應(yīng)用領(lǐng)域:水處理

產(chǎn)品價(jià)格:面議

想了解更多產(chǎn)品詳情,請(qǐng)

(一)基本概述

一體化廢水處理設(shè)備是在斜板(管)沉淀池基礎(chǔ)之上改進(jìn)而成,將PH/ORP自動(dòng)加藥裝置、空氣攪拌系統(tǒng)、污泥沉淀系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)有機(jī)融合在一起,保證出水的達(dá)標(biāo)排放。斜板(管)沉淀池是根據(jù)淺池沉淀理論設(shè)計(jì)出的一種高效組合式沉淀池;也統(tǒng)稱為淺池沉淀池。在沉降區(qū)域設(shè)置許多密集的斜管或斜板,使水中懸浮雜質(zhì)在斜板或斜管中進(jìn)行沉淀,水沿斜板或斜管上升流動(dòng),分離出的泥渣在重力作用下沿著斜板(管)向下滑至池底,再集中排出。這種池子可以提高沉淀效率50~60%,在同一面積上可提高處理能力3~5倍?筛鶕(jù)原廢水的試驗(yàn)數(shù)據(jù)來(lái)設(shè)計(jì)不同流量的斜管沉淀器,使用時(shí)一般都要投加凝聚劑。 斜管沉淀凈水法是在泥渣懸浮層上方按裝傾角60度的斜管組建,便原水中的懸浮物,固體物或經(jīng)投加混凝劑后形成的絮體礬花,在斜管底側(cè)表面積積聚成薄泥層,依靠重力作用滑回泥渣懸浮層,繼而沉入集泥斗。由排泥管排入污泥池另行處理或綜合利用。上清液逐漸上升至集水管排出,可直接排放或回用。

(二)設(shè)備特點(diǎn)

1、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、無(wú)易損件、經(jīng)久耐用、減少維修。 2、運(yùn)行穩(wěn)定、容易操作。 3、動(dòng)力少、節(jié)約能源。 4、占地省、投資少、上馬快、效率高。5停留時(shí)間短,沉淀效果高,處理效率高,曝氣強(qiáng)度低,不需污泥回流。

(三)使用范圍

1、電鍍廢水中含多種金屬離子的混合廢水、鉻、銅、鐵、鋅、鎳等去除率均在90%以上,一般電鍍廢水經(jīng)處理后均可達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。 2、煤礦、選礦廢水可使?jié)岫仍?00-1500毫克/升降至5毫克/升。 3、印染、漂染等廢水色度去除率70-90%,COD去除50-70%。 4、制革、食品等行業(yè)廢水大量有機(jī)質(zhì)的去除,COD去除率50-80%,雜質(zhì)固體去除率90%以上。 5、化工廢水的COD去除率60-70%,色度去除60-90%,懸浮物達(dá)排放標(biāo)準(zhǔn)。

(四)技術(shù)參數(shù)

規(guī)格型號(hào)SQSX

XG-5

XG-10

XG-15

XG-20

XG-25

XG-30

XG-40

XG-50

處理能力(T/H)

5

10

15

20

25

30

40

50

設(shè)備尺寸(米)

2.5*2*3.5

2.5*2.5*4

5*2.5*4

6*3*4.5

8*3*4.5

8*3.5*4.5

10*3.5*4.5

12*3.5*4.5

(五)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介

1.斜管、斜板材料:玻璃鋼(FRP)聚氯乙烯(PVC)聚乙烯(PE)聚丙烯(PP)

2.斜管斷面一般為正六邊形,斜板斷面可為平行板,亦可為正弦波形板。

3.斜管(板)頂部以上清水區(qū)高度為1.0—1.5m,底部以下配水區(qū)高度不小于1.0—1.5m。機(jī)械排泥時(shí),配水區(qū)高度應(yīng)大于1.6m,便于安裝和檢修。

4.斜管(板)中水流的Re數(shù)小于500,F(xiàn)r數(shù)為10-3—10-5,

5.斜管設(shè)計(jì)流速為1.0—4.0mm/s,斜板為10-20mm/s。

(六)安裝使用

1.斜管安裝時(shí)應(yīng)用膠液或電粘接等方法粘接固定。平行板斜板則用支持架固定,波形斜板用穿心螺桿固定。

2.安裝時(shí)傾斜方向不應(yīng)使水流直沖斜管(板)。

3.定期沖洗,合理管理,降低因生物膜瘋長(zhǎng)引起堵塞現(xiàn)象。

4.斜管(板)平面不得承受集中負(fù)荷。

5.不得在安裝有斜管(板)區(qū)域內(nèi)使用明火。

(七)沉淀原理

斜板、斜管統(tǒng)稱為淺池沉淀池,是建立在淺池沉淀原理基礎(chǔ)上的。設(shè)有一理想沉淀池,池窖V,表面積A,池長(zhǎng)L,寬=B,高=H,處理水量Q,停留時(shí)間t,沉降速度U0。則V=Qt,H=Uot,Q=Uot/H=U0A由淺池沉淀原理可知:沉淀效率僅為沉淀池表面積的函數(shù),而與水深無(wú)關(guān)。當(dāng)沉淀池容積為定值時(shí),池子越淺則A值越大,沉淀效率越高。所以,如果將沉淀池按高度分隔為n層,即分隔為n個(gè)高度為h=H/n的淺層沉降單元,在Q不變的條件下,顆粒的沉降深度由H減小到H/n,則沉淀池中可被完全除去的顆粒沉速范圍由原來(lái)的u U0擴(kuò)大到u U0/n ,沉速u

(八)工藝流程

 


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