新型超純水TOC降解器
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人氣：1669 發(fā)布時(shí)間：2009-05-08 10:49 關(guān)鍵詞：殺菌消毒 產(chǎn)品型號(hào)： 應(yīng)用領(lǐng)域：水處理 產(chǎn)品價(jià)格：面議 想了解更多產(chǎn)品詳情，請(qǐng) |
新型超純水TOC降解器采用目前國(guó)際上最先進(jìn)的高光強(qiáng)172nm單波長(zhǎng)準(zhǔn)分子紫外燈,徹底克服了市場(chǎng)上現(xiàn)有TOC降解器采用傳統(tǒng)185nm低壓汞燈因光強(qiáng)極低而造成的降解效果差的技術(shù)瓶頸,可有效地用于電子工業(yè)超純水TOC降解和清除臭氧.燈管使用壽命高達(dá)5萬(wàn)小時(shí),降解器腔體采用316L不銹鋼,內(nèi)外鏡面拋光設(shè)計(jì).處理流量可隨用戶(hù)要求定制.
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高強(qiáng)度172nm準(zhǔn)分子紫外燈簡(jiǎn)介:
波長(zhǎng)為172 nm的真空紫外光子能量高達(dá)7.2 eV，足以打開(kāi)大多數(shù)分子鍵，是一系列化學(xué)反應(yīng)和表面加工處理過(guò)程的基礎(chǔ)：
有機(jī)物的分解和氧化。
化學(xué)氣相沉積(Photo-CVD)。
表面改性，如電子薄膜性能的改善。
表面活化。
準(zhǔn)分子紫外光源的光強(qiáng)輸出高達(dá)傳統(tǒng)低壓汞燈的1000倍，使處理時(shí)間大大縮短，加工過(guò)程大大加快。
高強(qiáng)度172nm紫外光源可應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)：
表面清洗。高能紫外光子與氧氣作用產(chǎn)生臭氧和氧的活性基團(tuán)，使有機(jī)物氧化而清潔表面，并使表面分子鍵激活。
光化學(xué)氣相沉積。生長(zhǎng)各種無(wú)定形的電子薄膜，如高介電常數(shù)Ta2O5和HfO2等。
改善化學(xué)結(jié)構(gòu)。對(duì)SiO2進(jìn)行處理以改善其化學(xué)計(jì)量性。
表面激活，以增加表面張力和濕潤(rùn)性。
