Fenton氧化-絮凝耦合去除水中As(Ⅲ)的機(jī)理
更新時(shí)間：2014-11-13 13:58
來源：環(huán)境工程學(xué)報(bào)
作者:
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摘要:
為了改善亞鐵(Fe(Ⅱ))絮凝去除水中As(Ⅲ)的效果,對(duì)Fe(Ⅱ)/H2O2(Fenton試劑)氧化-絮凝耦合工藝進(jìn)行了研究。以5mg/L的As(Ⅲ)模擬廢水為處理對(duì)象,對(duì)比了Fenton氧化-絮凝耦合處理As(Ⅲ)和單一Fe(Ⅱ)絮凝的效果。結(jié)果表明:單一絮凝對(duì)總砷的去除率只有60%左右,而氧化-絮凝耦合的去除率可達(dá)99.3%;氧化-絮凝耦合產(chǎn)生的絮體粒度約為單一絮凝的3倍,明顯增強(qiáng)了絮凝沉降性能。SEM、XRD、BET測(cè)試結(jié)果表明:Fenton氧化-絮凝耦合去除水中As(Ⅲ)產(chǎn)生的絮體初級(jí)粒子是一種無定形納米顆粒;氧化-絮凝耦合反應(yīng)產(chǎn)生的Fe(Ⅱ)/Fe(Ⅲ)混合態(tài)水解形成納米膠體,對(duì)As(Ⅴ)的絮凝吸附優(yōu)于As(Ⅲ)。氧化還原電位的測(cè)定表明As(Ⅲ)被迅速氧化為As(Ⅴ),且是一種原位氧化-絮凝反應(yīng)過程。
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