硫酸鈦混凝去除無機(jī)砷(III)的效能
更新時(shí)間:2015-06-24 14:02
來源:環(huán)境工程學(xué)報(bào)
作者:
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摘要:
使用硫酸鈦?zhàn)鳛榛炷齽?研究了混凝去除As(III)過程中溶液pH值、混凝劑投加量、砷的初始濃度以及陰離子對(duì)除砷效果的影響.硫酸鈦的水解沉淀物顆粒等電點(diǎn)為pH=5;當(dāng)pH=6時(shí),水解沉淀物的粒徑最大.在pH=5~8范圍內(nèi),As(III)的去除率高且基本穩(wěn)定;而沉淀物顆粒Zeta電位降低較大.說明水解沉淀物Zeta電位對(duì)As(III)的去除影響不大.混凝劑投加量為2.5~10mg/L時(shí),As(III)的去除率隨投加量的增加而顯著增加;混凝劑投加量大于15mg/L時(shí),As(III)去除率隨混凝劑投加量的增加變化趨于平緩.水中陰離子(硅酸根和磷酸根離子)的存在會(huì)降低混凝對(duì)As(III)的去除效率.
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