萬(wàn)象硅峰電子股份有限公司廢水處理站
來(lái)源：北京建工金源環(huán)保發(fā)展有限公司 閱讀：5329 更新時(shí)間：2011-06-30 13:17| 詳細(xì)信息 | |||||
| 項(xiàng)目名稱 | 萬(wàn)象硅峰電子股份有限公司廢水處理站 | ||||
| 建設(shè)地點(diǎn) | 建設(shè)起始時(shí)間 | 建設(shè)結(jié)束時(shí)間 | |||
| 建設(shè)性質(zhì) | 新建 | 工程投資 | 廢水性質(zhì) | ||
| 處理規(guī)模 | 進(jìn)水水質(zhì) | 出水水質(zhì) | |||
| 處理工藝 | 運(yùn)行費(fèi)用 | 承包范圍 | |||
工程說(shuō)明
項(xiàng)目名稱
萬(wàn)象硅峰電子股份有限公司廢水處理站
工程地點(diǎn)
浙江開(kāi)化市
工作范圍
總承包（不包括土建施工）
項(xiàng)目起始時(shí)間
2006年4月
項(xiàng)目結(jié)束時(shí)間
2006年7月
廢水性質(zhì)
電子生產(chǎn)廢水
工程規(guī)模
1070m3/d
設(shè)計(jì)水質(zhì)
SS=1000mg/L Pb=50mg/L Cu=50mg/L F=2000mg/L
設(shè)計(jì)出水水質(zhì)及用途
國(guó)家一級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn)（CODcr ≤100mg/L；SS≤70mg/L；Pb≤1mg/L；Cu≤0.5mg/L；F≤10mg/L），排放至市政管網(wǎng)
主要工藝
調(diào)節(jié)池、多級(jí)化學(xué)反應(yīng)、沉淀
工程特點(diǎn)
本工藝主要采取多級(jí)化學(xué)沉淀法，F(xiàn)離子主要通過(guò)投加氫氧化鈣以及輔助的PAC、PAM去除，而系統(tǒng)中的重金屬離子主要通過(guò)與OH根的結(jié)合生成沉淀加以去除。
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加藥區(qū) |
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全景 |
工程圖片
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