反滲透膜設備在電子行業(yè)的應用反滲透膜設備

更新時間：2009-07-22 13:49 來源：作者: 閱讀：1332

電子工業(yè)中尤其是電子元器件生產中純水的重要作用日益突出，純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因索之一。在電子元器件生產中，高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。

在電解電容器生產中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。

在電子管生產中，電子管陰極涂敷著碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。

在顯象管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8 ppb以上，就會引起發(fā)光變色。含鐵在50 ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗，閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，會降低熒光層強度及其與玻殼粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯象管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5工序需使用純水，每生產一個顯象管需用純水80 Kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。

在晶體管集成電路生產中反滲透膜設備生產的純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源、部份設備的冷卻水、配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%工序需要使用高純水清洗硅片，高純水設備生產的水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。

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